🔎 Préparation d'échantillons de matériaux de résistance en cuivre

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🔎 Préparation d'échantillons de matériaux de résistance en cuivre

Les résistances en cuivre ne sont en aucun cas de simples « composants conducteurs » ; leur valeur fondamentale réside dans leurs caractéristiques de résistance en fonction de la température et leurs avantages en matière de faible résistivité, qui, ensemble, sous-tendent leurs applications dans de multiples domaines.

 

Elles remplissent trois fonctions principales :

– **Détection de température** : Conversion de la température en signaux électriques ;

– **Transport d’énergie** : Agissant comme des « ponts conducteurs » pour réduire les pertes dans les circuits ;

– **Régulation de circuit** : Fourniture de solutions d’impédance personnalisées.

 

Dans les environnements à températures moyennes et basses, les résistances Cu50 (50 Ω à 0 °C) et Cu100 (100 Ω à 0 °C) sont les plus courantes. Grâce à leur excellente linéarité et leur faible coût, elles sont largement utilisées dans l'industrie, notamment pour la surveillance de la température entre -50 °C et 150 °C dans les réacteurs chimiques et les chambres froides alimentaires, ainsi que dans le secteur domestique, par exemple pour les systèmes de régulation de température des salles informatiques et les sondes de température des appareils électroménagers.

 

Des foyers aux réseaux électriques, la faible perte des résistances en cuivre est indispensable. Elles jouent également un rôle irremplaçable dans les circuits électroniques de base, tels que les cartes de circuits imprimés et les systèmes de communication à haute fréquence. Leur faible coût, leur fiabilité et leur grande adaptabilité les rendent incontournables dans les applications actuelles.

 

Vous trouverez ci-dessous les paramètres de préparation des échantillons de matériaux résistifs en cuivre et une appréciation des effets microscopiques métallographiques :

1️⃣ **Ponçage** : Papier de verre avec des grains de P800, P1200 et P2500

2️⃣ **Polissage grossier** : SC + diamant polycristallin de 3 µm

3️⃣ **Polissage final** : ZN + silice 0,05 nm

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